半導(dǎo)體微電子領(lǐng)域中等離子清洗設(shè)備是什么？

等離子清潔設(shè)備通常比紫外線臭氧設(shè)備更大、更昂貴且更復(fù)雜。耗材包括一個真空泵、一個幾百瓦的射頻發(fā)電機和純氣體（通常是氧氣和氬氣，在某些情況下還有氫氣）。

本質(zhì)上，等離子清洗是一種批量清洗方法，而紫外線臭氧可用于傳送帶的在線系統(tǒng)。使用時，將設(shè)備置于真空室中，引入適當(dāng)?shù)臍怏w，開啟射頻電源1~15分鐘即可完成清洗過程。

近年來，引入了一種簡單、便宜的等離子清潔系統(tǒng)，它本質(zhì)上是一個微波爐。將要等離子清洗的樣品放在微波爐外殼內(nèi)的玻璃室內(nèi)。當(dāng)磁控管打開時，會產(chǎn)生頻率非常高（約 2.5GHz）的感應(yīng)等離子體。這是目前常用于實驗室清潔的商業(yè)產(chǎn)品。

然而，還沒有獨立的出版物將微波等離子清洗機與傳統(tǒng)的等離子清洗機進行引線鍵合清洗或敏感芯片無損清洗的例子進行比較。

在微電子領(lǐng)域使用等離子清洗是為了去除晶圓上光刻膠的污染。然而，特別是，已經(jīng)有大量研究使用等離子清洗方法去除污染物。